SK海力士引进高数值孔径EUV光刻机 推动半导体技术革新
AI导读：
SK海力士宣布引进业界首款量产型高数值孔径极紫外光刻机，其光学性能提升40%，能制作精密度1.7倍的电路图案，集成度提升2.9倍，推动半导体技术革新。
SK海力士宣布，已将业界首款量产型高数值孔径极紫外光刻机（High NA EUV）引进韩国利川M16工厂，这一举措标志着半导体制造技术迈入新阶段。该设备与现有的EUV设备（NA 0.33）相比，其光学性能提升了40%，这一显著改进使其能够制作出精密度高达1.7倍的电路图案，为芯片性能提升奠定基础，并将集成度提升2.9倍，进一步推动半导体行业技术革新。
（文章来源：科创板日报）
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