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国家知识产权局发布《集成电路布图设计保护条例修改草案（征求意见稿）》，旨在完善登记注册和确权程序，加强布图设计专有权保护，促进布图设计实施和运用，新增职务创作奖酬措施。

国家知识产权局近日发布了《集成电路布图设计保护条例修改草案（征求意见稿）》，并向公众广泛征求意见。此次修改旨在进一步完善登记注册和确权程序，从源头上强化知识产权保护，为权利人提供更加坚实的法律保障。

征求意见稿中明确指出，将加强布图设计专有权的保护力度，维护权利人的合法权益。为此，新增了独创性声明相关制度，明确了专有权保护范围的确定规则，以确保权利人的创新成果得到有效保护。

此外，草案还着重强调了促进布图设计的实施和运用，通过政策引导和支持，推动新质生产力的发展。同时，为了激励职务创作，草案中还新增了奖酬措施，以激发更多创新人才的积极性和创造力。

此次修改草案的发布，标志着我国在集成电路布图设计保护方面又迈出了坚实的一步，为推动我国集成电路产业的持续健康发展提供了有力的法律支撑。

（文章来源：财联社）