国际团队提出aZIF薄膜制备新方法,A股光刻胶企业受关注
AI导读:
国际合作团队提出间歇性旋涂化学液相沉积制备aZIF薄膜新方法,实现沉积可控并验证光刻效果。A股20家企业布局半导体光刻胶业务,涵盖产业链上下游,有望随科技发展迎来机遇。
据中国化工报,华东理工大学副教授庄黎伟、美国约翰霍普金斯大学教授迈克尔·萨帕希斯领衔的国际合作团队,提出了一种间歇性旋涂化学液相沉积制备非晶态沸石咪唑酯骨架(aZIF)薄膜的方法,该方法实现了薄膜沉积速率和厚度的可控,并进行了电子束光刻和超越极紫外光刻验证。相关研究近日发表于《自然—化学工程》。据介绍,近年来,aZIF薄膜被用作先进光刻胶,而实现aZIF薄膜的大面积、高精度可控制备,对相关领域的先进光刻工艺具有重要意义。在前期基于超稀释前驱体溶液赋能化学液相沉积法制备aZIF薄膜策略的基础上,研究团队提出了制备aZIF薄膜的新方法,这一突破为半导体光刻胶领域带来新可能。
根据公司经营业务以及自身在投资者关系互动平台的披露,A股市场布局半导体光刻胶业务的公司有上海新阳、南大光电、聚光科技等20家,这些公司中既有属于半导体产业链上下游公司,也有公司的子公司或参股公司参与半导体光刻胶业务。随着科技发展,半导体光刻胶需求持续增长,这些企业有望迎来发展新机遇。

(文章来源:人民财讯)
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