上海微电子装备中标步进扫描式光刻机项目
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上海微电子装备（集团）股份有限公司近日中标步进扫描式光刻机项目，中标金额约1.09亿元。该步进扫描光刻技术结合了扫描投影光刻和分步重复光刻的优势，适用于0.25μm以下的制造工艺。
企查查APP显示，近日，上海微电子装备（集团）股份有限公司中标步进扫描式光刻机项目，中标金额约1.09亿元。据此前公告，招标方为科学技术部。企查查信息显示，该公司成立于2002年，经营范围包含：半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务等，由上海电气控股集团有限公司、张江高科全资子公司上海张江浩成创业投资有限公司等共同持股。
据了解，步进扫描光刻是一种混合光刻技术，结合了扫描投影光刻和分步重复光刻的优势。该技术通过动态扫描方式同步移动掩膜版和晶圆，标准曝光尺寸为26 mm×33 mm，可增大曝光场并一次曝光多个芯片，其具备整个扫描过程的实时聚焦调节能力，适用于0.25μm以下的制造工艺，尤其在0.18μm节点及更先进工艺中广泛应用。
（文章来源：人民财讯）
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