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  • “闪速退火”工艺:制备高性能储能薄膜新突破

    中国科学院金属研究所团队开发出“闪速退火”工艺,成功制备出晶圆级高性能储能薄膜。该工艺解决了电容器难题,制造出的薄膜电容器环境适应性强,还为芯片级集成储能提供工业化潜力方案。...

    2025-11-15