中国科学院金属研究所团队开发出“闪速退火”工艺，成功制备出晶圆级高性能储能薄膜。该工艺解决了电容器难题，制造出的薄膜电容器环境适应性强，还为芯片级集成储能提供工业化潜力方案。...