哈尔滨工业大学突破纳米结构激光制备技术瓶颈
AI导读：
哈尔滨工业大学团队提出在空气中利用远场飞秒激光刻蚀技术在二维铁电材料上直写超分辨纳米沟槽阵列的新方法，突破了分辨率瓶颈，对创新功能架构构建、电子器件集成及纳米光子学发展具有重要意义，相关成果已在《自然通讯》发表。
近日，哈尔滨工业大学机电工程学院杨立军教授、丁烨副教授团队和材料科学与工程学院李洋教授团队，在二维铁电材料领域取得了重要突破。他们提出了一种在空气中利用远场飞秒激光刻蚀技术，直接在二维铁电材料上刻写超分辨纳米沟槽阵列结构的新方法。这一创新技术有望为创新功能架构的构建、电子器件的集成以及纳米光子学的发展带来革命性的变化。相关研究成果已在国际权威期刊《自然通讯》（Nature Communication）上发表，标志着我国在纳米结构激光制备技术方面取得了重要进展，突破了传统制备方法的分辨率瓶颈。
（文章来源：财联社）
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